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见周小慧还是有些不懂,苏远山便放弃了解释, 直接道:“反正就是, 我们以前所说的制程就是指的mosfet结构中的沟道长度。沟道越短,电阻越小,性能越高,同时晶体管密度也就越大,所以才要不断提升制程。”
“哦?然后呢?”
“然后就是如果还是沿用以前mosfet结构的话,当沟道长度越来越短,譬如22nm之后,源极和漏极之间也会越来越近,电场也越来越近。”苏远山说着伸出双手靠近,然后把自己的笔记本放在手上:“我的两只手就是源极和漏极,电流从源极流入,漏极流出,并产生电场,当它们距离过近,就会干扰到上面的栅极,从而漏电——我们把这个效应称为短沟道效应。”
“而finfet结构就是为了解决这个问题而诞生的,甚至还因为它的结构是把晶体管竖了起来——譬如我竖起了手掌——从而可以获得更高的晶体管密度之外, 还能很好地解决短沟道效应。所以, 从目前来看,22n结构的一个分水岭。”
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